低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備

發(fā)布時(shí)間: 2025年01月16日
摘要信息
招標(biāo)單位
招標(biāo)編號(hào)
招標(biāo)估價(jià)
招標(biāo)聯(lián)系人
招標(biāo)代理機(jī)構(gòu)
代理聯(lián)系人
報(bào)名截止時(shí)間
投標(biāo)截止時(shí)間
關(guān)鍵信息
招標(biāo)詳情
下文中****為隱藏內(nèi)容,僅對(duì)千里馬會(huì)員開(kāi)放,如需查看完整內(nèi)容請(qǐng) 或 撥打咨詢(xún)熱線: 400-688-2000
相關(guān)單位:
***********公司企業(yè)信息
****2025年2至4月政府采購(gòu)意向-低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備 詳細(xì)情況
低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
項(xiàng)目所在采購(gòu)意向: ****2025年2至4月政府采購(gòu)意向
采購(gòu)單位: ****
采購(gòu)項(xiàng)目名稱(chēng): 低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
預(yù)算金額: 685.000000萬(wàn)元(人民幣)
采購(gòu)品目:
A-貨物_A****0000-設(shè)備_A****0000-機(jī)械設(shè)備_A****2400-真空獲得及應(yīng)用設(shè)備_A****2499-其他真空獲得及應(yīng)用設(shè)備
采購(gòu)需求概況 :
申請(qǐng)購(gòu)置的低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備將用于硅基薄膜材料的生長(zhǎng)沉積和退火等工藝,包括氮化硅、氧化硅、碳化硅材料等。其中配備的氮化硅、TEOS和熱退火工藝是硅基光電子領(lǐng)域最常用的標(biāo)準(zhǔn)工藝和基礎(chǔ)。 1. 適用于8英寸晶圓, 向下兼容,單管產(chǎn)能不低于50片。 2. 三溫區(qū),恒溫區(qū)長(zhǎng)度>450 mm, 控溫精度: ±0.5 ℃。 3. 極限真空≤10 mTorr;抽真空用時(shí) < 10 min;漏率≤10 mTorr/min 4. 高溫退火:工作溫度≥1250℃ 5. 膜厚均勻性指標(biāo):片內(nèi)< 3%、片間< 3%、批間< 3%
預(yù)計(jì)采購(gòu)時(shí)間: 2025-04
備注:

本次公開(kāi)的****政府采購(gòu)工作的初步安排,具體采購(gòu)項(xiàng)目情況以相關(guān)采購(gòu)公告和采購(gòu)文件為準(zhǔn)。

招標(biāo)進(jìn)度跟蹤
2025-01-16
招標(biāo)預(yù)告
低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
當(dāng)前信息
招標(biāo)項(xiàng)目商機(jī)
暫無(wú)推薦數(shù)據(jù)
400-688-2000
歡迎來(lái)電咨詢(xún)~