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為便****政府采購(gòu)信息，根據(jù)《****政府采購(gòu)意向公開(kāi)工作的通知》（財(cái)庫(kù)〔2020〕10號(hào)）等有關(guān)規(guī)定，現(xiàn)將本單位2024年06月至2024年07月采購(gòu)意向公開(kāi)如下：
序號(hào) 采購(gòu)項(xiàng)目名稱 采購(gòu)需求概況 落實(shí)政府采購(gòu)政策情況 預(yù)算金額(元) 預(yù)計(jì)采購(gòu)時(shí)間 備注| 1 | 多腔室磁控濺射系統(tǒng) | 標(biāo)的名稱：多腔室磁控濺射系統(tǒng) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：采用磁控濺射技術(shù)濺射鍍膜，在基體表面形成鍍層的半導(dǎo)體制造工藝 需滿足的要求：1.設(shè)備構(gòu)成： 至少配有1個(gè)進(jìn)樣和傳送模塊、1個(gè)預(yù)清洗腔室、2個(gè)濺射工藝腔室等，要求適用6inch、8inch晶圓；2.濺射系統(tǒng)： 1）配備至少3個(gè)3kW直流濺射電源、至少3套不同功率的射頻濺射電源及一套1.5KW脈沖直流電源 2）至少6支不同類型靶槍；3.工藝要求： 1）鍍膜均勻性：優(yōu)于±3%；批次間重復(fù)性：優(yōu)于±2%； 2）可用于濺射金屬和合金材料靶材、反應(yīng)濺射、非磁性靶材 | 落實(shí)國(guó)家關(guān)項(xiàng)目于節(jié)能產(chǎn)品、環(huán)保標(biāo)志產(chǎn)品、促進(jìn)中小企業(yè)發(fā)展、殘疾人福利性單位、貧困地區(qū)農(nóng)副產(chǎn)品等政策情況 | 4,200,000.00 | 2024年07月 | |
| 2 | 等離子去膠機(jī) | 標(biāo)的名稱：等離子去膠機(jī) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：使用等離子體對(duì)殘留在晶圓表面的的光刻膠等黏附物質(zhì)進(jìn)行去除 需滿足的要求：1.設(shè)備構(gòu)成： 傳片系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、低溫與常溫兩種去膠工藝腔、RF射頻源、Chiller/Pump；要求適用于4、6、8inch晶圓；2.低溫與常溫去膠工藝腔： 去膠效果均要求片內(nèi)、片間批間的均勻性<5%；微粒（> 0.2μm）增加量<30ea；3.工藝穩(wěn)定性： 1）電源輸出功率、溫度穩(wěn)定且在一定范圍內(nèi)可調(diào)； 2）設(shè)備平均維修時(shí)間 ≤4 小時(shí)；平均報(bào)錯(cuò)時(shí)間≥350小時(shí)； | 落實(shí)國(guó)家關(guān)項(xiàng)目于節(jié)能產(chǎn)品、環(huán)保標(biāo)志產(chǎn)品、促進(jìn)中小企業(yè)發(fā)展、殘疾人福利性單位、貧困地區(qū)農(nóng)副產(chǎn)品等政策情況 | 2,500,000.00 | 2024年07月 | |
| 3 | 勻膠顯影噴膠機(jī) | 標(biāo)的名稱：勻膠顯影噴膠機(jī) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：對(duì)晶圓表面進(jìn)行所需光刻材料的涂覆、烘烤、顯影、晶圓背面的清洗以及用于浸沒(méi)式工藝的晶圓表面的去離子水沖洗等工藝操作，從而服務(wù)于后續(xù)芯片工藝制造 需滿足的要求：1.適用6、8inch尺寸晶圓； 勻膠與顯影單元： 1）主軸旋轉(zhuǎn)速度范圍內(nèi)可調(diào)； 2）勻膠單元至少具備兩種光刻膠傳輸管路，至少具備兩種滴膠方式。 3）皆具備去邊及背洗功能；冷熱板轉(zhuǎn)速可控且一定范圍內(nèi)可調(diào)；2.工藝要求： 1）平均故障時(shí)間≥500h，有一定溫度均勻性。 2）勻膠均勻性≤±10%（膜厚≥10um，平面） 3）顯影均勻性要求CD 尺寸片內(nèi)與片間≤±3%。 | 落實(shí)國(guó)家關(guān)項(xiàng)目于節(jié)能產(chǎn)品、環(huán)保標(biāo)志產(chǎn)品、促進(jìn)中小企業(yè)發(fā)展、殘疾人福利性單位、貧困地區(qū)農(nóng)副產(chǎn)品等政策情況 | 3,000,000.00 | 2024年07月 |
本次公開(kāi)的****政府采購(gòu)工作的初步安排，具體采購(gòu)項(xiàng)目情況以相關(guān)采購(gòu)公告和采購(gòu)文件為準(zhǔn)。
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2024年06月19日
